
Standard Test Method for Thickness of Epitaxial or Diffused Layers in Silicon by the Angle Lapping and Staining Technique (Withdrawn 2003) (Includes all amendments And changes 8/16/2017).
NORM herausgegeben am 10.12.2000
Bezeichnung normen: ASTM F110-00a
Anmerkung: UNGÜLTIG
Ausgabedatum normen: 10.12.2000
Zahl der Seiten: 4
Gewicht ca.: 12 g (0.03 Pfund)
Land: Amerikanische technische Norm
Kategorie: Technische Normen ASTM
Keywords:
angle lapping, diffused layer, epitaxial layer, etching, fringe count, staining, thickness, ICS Number Code 29.045 (Semiconducting materials)