Standard Practice for Detection of Oxidation Induced Defects in Polished Silicon Wafers (Withdrawn 2003)
NORM herausgegeben am 10.12.2002
Bezeichnung normen: ASTM F1727-02
Anmerkung: UNGÜLTIG
Ausgabedatum normen: 10.12.2002
Zahl der Seiten: 3
Gewicht ca.: 9 g (0.02 Pfund)
Land: Amerikanische technische Norm
Kategorie: Technische Normen ASTM
Keywords:
defects, dislocation, epitaxy, hillock, imperfections, oxidation, preferential etch, shallow pit, silicon, slip, stacking fault, swirl, ICS Number Code 29.045 (Semiconducting materials)