ASTM F1727-97

Standard Practice for Detection of Oxidation Induced Defects in Polished Silicon Wafers

NORM herausgegeben am 10.6.1997

Englisch -
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Informationen über die Norm:

Bezeichnung normen: ASTM F1727-97
Anmerkung: UNGÜLTIG
Ausgabedatum normen: 10.6.1997
Zahl der Seiten: 3
Gewicht ca.: 9 g (0.02 Pfund)
Land: Amerikanische technische Norm
Kategorie: Technische Normen ASTM

Die Annotation des Normtextes ASTM F1727-97 :

Keywords:
defects, dislocation, epitaxy, hillock, imperfections, oxidation, preferential etch, shallow pit, silicon, slip, stacking fault, swirl, ICS Number Code 29.045 (Semiconducting materials)