Standard Test Method for Measuring the Depth of Crystal Damage of a Mechanically Worked Silicon Slice Surface by Angle Polishing and Defect Etching (Withdrawn 2003)
NORM herausgegeben am 10.12.2002
Bezeichnung normen: ASTM F950-02
Anmerkung: UNGÜLTIG
Ausgabedatum normen: 10.12.2002
Zahl der Seiten: 6
Gewicht ca.: 18 g (0.04 Pfund)
Land: Amerikanische technische Norm
Kategorie: Technische Normen ASTM
Keywords:
bevel polish, damage-depth, defect, preferential etch, silicon, ICS Number Code 29.045 (Semiconducting materials)