ASTM F950-98

Standard Test Method for Measuring the Depth of Crystal Damage of a Mechanically Worked Silicon Slice Surface by Angle Polishing and Defect Etching

NORM herausgegeben am 10.5.1998

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Informationen über die Norm:

Bezeichnung normen: ASTM F950-98
Anmerkung: UNGÜLTIG
Ausgabedatum normen: 10.5.1998
Zahl der Seiten: 5
Gewicht ca.: 15 g (0.03 Pfund)
Land: Amerikanische technische Norm
Kategorie: Technische Normen ASTM

Die Annotation des Normtextes ASTM F950-98 :

Keywords:
bevel polish, damage-depth, defect, preferential etch, silicon, ICS Number Code 29.045 (Semiconducting materials)