Test method for thickness of lightly doped silicon epitaxial layers on heavily doped silicon substrates by infrared reflectance
NORM herausgegeben am 24.12.1993
Bezeichnung normen: GB/T 14847-1993
Anmerkung: UNGÜLTIG
Ausgabedatum normen: 24.12.1993
Land: Chinesische technische Norm
Kategorie: Technische Normen GB