
Test method for thickness of lightly doped silicon epitaxial layers on heavily doped silicon substrates—Infrared reflectance method
NORM herausgegeben am 31.10.2025
Bezeichnung normen: GB/T 14847-2025
Anmerkung: Execute Date: may 2026
Ausgabedatum normen: 31.10.2025
Land: Chinesische technische Norm
Kategorie: Technische Normen GB