GB/T 25188-2010

Thickness measurements for ultrathin silicon oxide layers on silicon wafers X-ray photoelectron spectroscopy

NORM herausgegeben am 26.9.2010

English, Chinesisch -
Elektronische PDF (237.00 EUR)

The information about the standard:

Designation standards: GB/T 25188-2010
Publication date standards: 26.9.2010
Country: Chinese technical standard
Kategorie: Technische Normen GB