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Standard Practice for Approximate Determination of Current Density of Large-Diameter Ion Beams for Sputter Depth Profiling of Solid Surfaces
Automatische name übersetzung:
Standard Praxis für Ungefähre Bestimmung der Stromdichte von großem Durchmesser Ionenstrahlen für Sputter Tiefenprofilierung von Solid Surfaces
NORM herausgegeben am 10.4.2000
Bezeichnung normen: ASTM E684-95(2000)
Anmerkung: UNGÜLTIG
Ausgabedatum normen: 10.4.2000
SKU: NS-47652
Zahl der Seiten: 2
Gewicht ca.: 6 g (0.01 Pfund)
Land: Amerikanische technische Norm
Kategorie: Technische Normen ASTM
Keywords:
ion beam sputtering, ICS Number Code 17.220.20 (Measurement of electrical and magnetic quantities)
1. Scope | ||||||
1.1 This practice describes a simple and approximate method for determining the shape and current density of ion beams. The practice is limited to ion beams of diameter greater than 0.5 mm of the type used for sputtering of solid surfaces to obtain sputter depth profiles. It is assumed that the ion-beam current density is symmetrical about the beam axis. 1.2 This standard does not purport to address all of the safety concerns, if any, associated with its use. It is the responsibility of the user of this standard to establish appropriate safety and health practices and determine the applicability of regulatory limitations prior to use. |
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2. Referenced Documents | ||||||
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Letzte Aktualisierung: 2025-08-17 (Zahl der Positionen: 2 211 709)
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