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Standard Test Method for Low Temperature FT-IR Analysis of Single Crystal Silicon for III-V Impurities (Withdrawn 2003)
Automatische name übersetzung:
Standard Test Method for Low Temperature FT-IR- Analyse von Einkristall-Silizium für die III-V- Verunreinigungen (Withdrawn 2003)
NORM herausgegeben am 10.12.2000
Bezeichnung normen: ASTM F1630-00
Anmerkung: UNGÜLTIG
Ausgabedatum normen: 10.12.2000
SKU: NS-50963
Zahl der Seiten: 6
Gewicht ca.: 18 g (0.04 Pfund)
Land: Amerikanische technische Norm
Kategorie: Technische Normen ASTM
Keywords:
analysis of silicon, determination of dopants, determination of impurities, electrically active impurities, Fourier transform infrared, impurities, silicon, ICS Number Code 29.045 (Semiconducting materials)
1. Scope |
This standard was transferred to SEMI (www.semi.org) May 2003 1.1 This test method covers the determination of electrically active boron, phosphorus, arsenic, aluminum, antimony, and gallium concentration in single crystal silicon. 1.2 This test method can be used for silicon in which the impurity/dopant concentrations are between 0.01 ppba and 5.0 ppba for each of the electrically active elements. 1.3 The concentration for each impurity/dopant can be obtained by application of Beer's Law. Calibration factors are given for each element. 1.4 This standard does not purport to address all of the safety concerns, if any, associated with its use. It is the responsibility of the user of this standard to establish appropriate safety and health practices and determine the applicability of regulatory limitations prior to use. |
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Letzte Aktualisierung: 2025-07-18 (Zahl der Positionen: 2 208 817)
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