Cookies
Wir benötigen Ihre Einwilligung zur Verwendung der einzelnen Daten, damit Sie unter anderem Informationen zu Ihren Interessen einsehen können. Klicken Sie auf "OK", um Ihre Zustimmung zu erteilen.
ASTM F1709-97(2002)
Standard Specification for High Purity Titanium Sputtering Targets for Electronic Thin Film Applications
Automatische name übersetzung:
Standard-Spezifikation für High Purity Titanium Sputtertargets für elektronische Dünnschicht- Anwendungen
NORM herausgegeben am 10.12.2002
Informationen über die Norm:
Bezeichnung normen: ASTM F1709-97(2002)
Anmerkung: UNGÜLTIG
Ausgabedatum normen: 10.12.2002
SKU: NS-51255
Zahl der Seiten: 3
Gewicht ca.: 9 g (0.02 Pfund)
Land: Amerikanische technische Norm
Kategorie: Technische Normen ASTM
Die Annotation des Normtextes ASTM F1709-97(2002) :
Keywords:
coating, sputtering, target, thin film, titanium, ICS Number Code 31.120 (Electronic display devices)
Ergänzende Informationen
| 1. Scope | ||
|
1.1 This specification covers pure titanium sputtering targets used as a raw material in fabricating semiconductor electronic devices. 1.2 This standard sets purity grade levels, physical attributes, analytical methods, and packaging. 1.2.1 The grade designation is a measure of total metallic impurity content. The grade designation does not necessarily indicate suitability for a particular application because factors other than total metallic impurity may influence performance. |
||
| 2. Referenced Documents | ||
|
Empfehlungen:
EEviZak – alle Gesetze einschließlich ihrer Evidenz in einer Stelle
Bereitstellung von aktuellen Informationen über legislative Vorschriften in der Sammlung der Gesetze bis zum Jahr 1945.
Aktualisierung 2x pro Monat!
Brauchen Sie mehr Informationen? Sehen Sie sich diese Seite an.
