Wir benötigen Ihre Einwilligung zur Verwendung der einzelnen Daten, damit Sie unter anderem Informationen zu Ihren Interessen einsehen können. Klicken Sie auf "OK", um Ihre Zustimmung zu erteilen.
Standard Specification for High Purity Titanium Sputtering Targets for Electronic Thin Film Applications (Withdrawn 2023)
Name übersetzen
NORM herausgegeben am 1.5.2016
Bezeichnung normen: ASTM F1709-97(2016)
Anmerkung: UNGÜLTIG
Ausgabedatum normen: 1.5.2016
SKU: NS-638477
Zahl der Seiten: 3
Gewicht ca.: 9 g (0.02 Pfund)
Land: Amerikanische technische Norm
Kategorie: Technische Normen ASTM
Keywords:
coating, sputtering, target, thin film, titanium ,, ICS Number Code 31.120 (Electronic display devices)
1. Scope | ||
1.1 This specification covers pure titanium sputtering targets used as a raw material in fabricating semiconductor electronic devices. 1.2 This standard sets purity grade levels, physical attributes, analytical methods, and packaging. 1.2.1 The grade designation is a measure of total metallic impurity content. The grade designation does not necessarily indicate suitability for a particular application because factors other than total metallic impurity may influence performance. |
||
2. Referenced Documents | ||
|
Bereitstellung von aktuellen Informationen über legislative Vorschriften in der Sammlung der Gesetze bis zum Jahr 1945.
Aktualisierung 2x pro Monat!
Brauchen Sie mehr Informationen? Sehen Sie sich diese Seite an.
Letzte Aktualisierung: 2024-04-26 (Zahl der Positionen: 2 896 057)
© Copyright 2024 NORMSERVIS s.r.o.