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ASTM F2113-01e1
Standard Guide for Analysis and Reporting the Impurity Content and Grade of High Purity Metallic Sputtering Targets for Electronic Thin Film Applications (Includes all amendments And changes 8/16/2017).
Automatische name übersetzung:
Standard-Leitfaden für Analyse und Reporting der Gehalt an Verunreinigungen und Grade von High Purity Metallic Sputtertargets für elektronische Dünnschicht- Anwendungen
NORM herausgegeben am 10.6.2001
Informationen über die Norm:
Bezeichnung normen: ASTM F2113-01e1
Anmerkung: UNGÜLTIG
Ausgabedatum normen: 10.6.2001
SKU: NS-52873
Zahl der Seiten: 2
Gewicht ca.: 6 g (0.01 Pfund)
Land: Amerikanische technische Norm
Kategorie: Technische Normen ASTM
Die Annotation des Normtextes ASTM F2113-01e1 :
Keywords:
electronics, purity analysis, purity grade, sputtering, target, thin film, ICS Number Code 29.045 (Semiconducting materials)
Ergänzende Informationen
| 1. Scope | ||
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1.1 This guide covers sputtering targets used as thin film source material in fabricating semiconductor electronic devices. It should be used to develop target specifications for specific materials and should be referenced therein. 1.2 This standard sets purity grade levels, analytical methods and impurity content reporting method and format. 1.2.1 The grade designation is a measure of total metallic impurity content. The grade designation does not necessarily indicate suitability for a particular application because factors other than total metallic impurity may influence performance. |
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| 2. Referenced Documents | ||
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