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Practice for Determining Effective Adhesion of Photoresist to Hard-Surface Photomask Banks and Semiconductor Wafers During Etching (Withdrawn 1996)
Automatische name übersetzung:
Praxis zur Bestimmung gute Haftung des Photoresist , um harte Oberflächen Fotomasken Banken und Halbleiterscheiben während des Ätzens (Withdrawn 1996)
Bezeichnung normen: ASTM F518-77(1991)E01
Anmerkung: UNGÜLTIG
SKU: NS-55595
Zahl der Seiten: 5
Gewicht ca.: 15 g (0.03 Pfund)
Land: Amerikanische technische Norm
Kategorie: Technische Normen ASTM
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Letzte Aktualisierung: 2025-08-22 (Zahl der Positionen: 2 213 186)
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