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UNGÜLTIG ASTM F518-77(1991)E01 1.1.1900 Ansicht

ASTM F518-77(1991)E01

Practice for Determining Effective Adhesion of Photoresist to Hard-Surface Photomask Banks and Semiconductor Wafers During Etching (Withdrawn 1996)

Automatische name übersetzung:

Praxis zur Bestimmung gute Haftung des Photoresist , um harte Oberflächen Fotomasken Banken und Halbleiterscheiben während des Ätzens (Withdrawn 1996)




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Realisierung
Zugänglichkeitin 1 Werktagen
Preis72.40 € ohne MWS
72.40 €

Informationen über die Norm:

Bezeichnung normen: ASTM F518-77(1991)E01
Anmerkung: UNGÜLTIG
SKU: NS-55595
Zahl der Seiten: 5
Gewicht ca.: 15 g (0.03 Pfund)
Land: Amerikanische technische Norm
Kategorie: Technische Normen ASTM

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Letzte Aktualisierung: 2026-02-12 (Zahl der Positionen: 2 260 737)
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