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Testing of materials for semiconductor technology; determination of etch rates of etching mixtures; silicium-dioxid coating; optical method.
Automatische name übersetzung:
Prüfung von Materialien für die Halbleitertechnologie; Bestimmung der Ätzrate von Ätzmischungen; Siliciumdioxid-Schichten; Optisches Verfahren.
NORM herausgegeben am 1.10.1990
Bezeichnung normen: DIN 50453-2:1990-10
Anmerkung: UNGÜLTIG
Ausgabedatum normen: 1.10.1990
SKU: NS-203871
Zahl der Seiten: 2
Gewicht ca.: 6 g (0.01 Pfund)
Land: Deutsche technische Norm
Kategorie: Technische Normen DIN
Prüfung von Materialien für die Halbleitertechnologie; Bestimmung der Ätzrate von Ätzmischungen; Siliciumdioxid-Schichten; Optisches Verfahren.
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Letzte Aktualisierung: 2026-10-26 (Zahl der Positionen: 2 208 060)
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