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Testing of materials for semiconductor technology - Methods for the characterisation photoresists - Part 2: Determination of photosensitivity of positive photoresists.
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Prüfung von Materialien für die Halbleitertechnologie - Verfahren zur Charakterisierung von Fotolacken - Teil 2: Bestimmung der Lichtempfindlichkeit von Positiv-Fotolacken.
NORM herausgegeben am 1.11.1999
Bezeichnung normen: DIN 50455-2:1999-11
Ausgabedatum normen: 1.11.1999
SKU: NS-203879
Zahl der Seiten: 4
Gewicht ca.: 12 g (0.03 Pfund)
Land: Deutsche technische Norm
Kategorie: Technische Normen DIN
Prüfung von Materialien für die Halbleitertechnologie - Verfahren zur Charakterisierung von Fotolacken - Teil 2: Bestimmung der Lichtempfindlichkeit von Positiv-Fotolacken.
UNGÜLTIG
1.2.2007
UNGÜLTIG
1.3.2010
UNGÜLTIG
1.11.2012
1.11.1995
1.10.2009
UNGÜLTIG
1.10.1995
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Letzte Aktualisierung: 2026-08-21 (Zahl der Positionen: 2 298 377)
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