UNGÜLTIG E DIN EN 62047-16:2012-11 1.11.2012 Ansicht

E DIN EN 62047-16:2012-11 (Entwurf)

Semiconductor devices - Micro-electromechanical devices - Part 16: Test methods for determining residual stresses of MEMS films - Wafer curvature and cantilever beam deflection methods.

Automatische name übersetzung:

Halbleiterbauelemente - Bauelemente der Mikrosystemtechnik - Teil 16: Messverfahren zur Ermittlung der Eigenspannungen in Dünnschichten von MEMS-Bauteilen - Substratkrümmungs- und Biegebalken-Verfahren.



NORM herausgegeben am 1.11.2012


Sprache
Realisierung
Zugänglichkeitin 7 Werktagen
Preis65.90 ohne MWS
65.90

Informationen über die Norm:

Bezeichnung normen: E DIN EN 62047-16:2012-11
Anmerkung: UNGÜLTIG
Ausgabedatum normen: 1.11.2012
SKU: NS-292591
Zahl der Seiten: 18
Gewicht ca.: 54 g (0.12 Pfund)
Land: Deutsche technische Norm (Entwurf)
Kategorie: Technische Normen DIN

Die Annotation des Normtextes E DIN EN 62047-16:2012-11 :

Halbleiterbauelemente - Bauelemente der Mikrosystemtechnik - Teil 16: Messverfahren zur Ermittlung der Eigenspannungen in Dünnschichten von MEMS-Bauteilen - Substratkrümmungs- und Biegebalken-Verfahren.

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