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Test method for thickness of lightly doped silicon epitaxial layers on heavily doped silicon substrates by infrared reflectance
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NORM herausgegeben am 24.12.1993
Bezeichnung normen: GB/T 14847-1993
Anmerkung: UNGÜLTIG
Ausgabedatum normen: 24.12.1993
SKU: NS-1172416
Land: Chinesische technische Norm
Kategorie: Technische Normen GB
Letzte Aktualisierung: 2026-06-11 (Zahl der Positionen: 2 281 927)
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