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Trichlorosilane for silicon epitaxy - Determination of boronaluminiumphosphorusvanadiumchromemanganeseironcobaltnickelcoppermolybdenumarsenic and antimony content - Inductively coupled plasma mass spectrometric method
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Trichlorsilan für Silizium-Epitaxie? - Bestimmung von Bor, luminium, Phosphor, Vanadium, Chrom, Mangan, ron, Kobalt, Nickel, Kupfer, Molybdän, rsenic und Antimongehalt - induktiv gekoppelte Plasma-Massenspektrometrie-Verfahren
NORM herausgegeben am 31.12.2012
Bezeichnung normen: GB/T 29056-2012
Anmerkung: UNGÜLTIG
Ausgabedatum normen: 31.12.2012
SKU: NS-364825
Land: Chinesische technische Norm
Kategorie: Technische Normen GB
Letzte Aktualisierung: 2026-08-14 (Zahl der Positionen: 2 293 479)
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