Cookies
Wir benötigen Ihre Einwilligung zur Verwendung der einzelnen Daten, damit Sie unter anderem Informationen zu Ihren Interessen einsehen können. Klicken Sie auf "OK", um Ihre Zustimmung zu erteilen.
IEC 62047-25-ed.1.0
Semiconductor devices - Micro-electromechanical devices - Part 25: Silicon based MEMS fabrication technology - Measurement method of pull-press and shearing strength of micro bonding area
Name übersetzen
NORM herausgegeben am 29.8.2016
Informationen über die Norm:
Bezeichnung normen: IEC 62047-25-ed.1.0
Ausgabedatum normen: 29.8.2016
SKU: NS-650596
Zahl der Seiten: 45
Gewicht ca.: 135 g (0.30 Pfund)
Land: Internationale technische Norm
Kategorie: Technische Normen IEC
Kategorie - ähnliche Normen:
Die Annotation des Normtextes IEC 62047-25-ed.1.0 :
IEC 62047-25:2016 specifies the in-situ testing method to measure the bonding strength of micro bonding area which is fabricated by micromachining technologies used in silicon-based micro-electromechanical system (MEMS). This document is applicable to the in-situ pull-press and shearing strength measurement of the micro bonding area fabricated by microelectronic technology process and other micromachining technology. LIEC 62047-25:2016 specifie la methode dessai in situ pour mesurer la resistance de brasure dune microzone de brasure fabriquee par des technologies de micro-usinage utilisees dans un systeme microelectromecanique (MEMS) a base de silicium. Le present document sapplique a la mesure in situ de la resistance a la traction-compression et de la resistance au cisaillement dune microzone de brasure fabriquee par un processus microelectronique et dautres technologies de micro-usinage.
Empfehlungen:
Aktualisierung der technischen Normen
Wollen Sie sich sicher sein, dass Sie nur die gültigen technischen Normen verwenden?
Wir bieten Ihnen eine Lösung, die Ihnen eine Monatsübersicht über die Aktualität der von Ihnen angewandten Normen sicher stellt.
Brauchen Sie mehr Informationen? Sehen Sie sich diese Seite an.
