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ISO 21466:2019
Microbeam analysis — Scanning electron microscopy — Method for evaluating critical dimensions by CD-SEM
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NORM herausgegeben am 13.12.2019
Informationen über die Norm:
Bezeichnung normen: ISO 21466:2019
Ausgabedatum normen: 13.12.2019
SKU: NS-978498
Zahl der Seiten: 47
Gewicht ca.: 141 g (0.31 Pfund)
Land: Internationale technische Norm
Kategorie: Technische Normen ISO
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Die Annotation des Normtextes ISO 21466:2019 :
Description / Abstract: This document specifies the structure model with related parameters, file format and fitting procedure for characterizing critical dimension (CD) values for wafer and photomask by imaging with a critical dimension scanning electron microscope (CD-SEM) by the model-based library (MBL) method. The method is applicable to linewidth determination for specimen, such as, gate on wafer, photomask, single isolated or dense line feature pattern down to size of 10 nm.
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