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ISO 21859:2019
Fine ceramics (advanced ceramics, advanced technical ceramics) — Test method for plasma resistance of ceramic components in semiconductor manufacturing equipment
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NORM herausgegeben am 18.6.2019
Informationen über die Norm:
Bezeichnung normen: ISO 21859:2019
Ausgabedatum normen: 18.6.2019
SKU: NS-953202
Zahl der Seiten: 4
Gewicht ca.: 12 g (0.03 Pfund)
Land: Internationale technische Norm
Kategorie: Technische Normen ISO
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Die Annotation des Normtextes ISO 21859:2019 :
Description / Abstract: This document specifies a test method for plasma resistance of ceramic components in semiconductor manufacturing equipment. It is applicable to ceramic components of plasma-resistant components in dry etching chambers used in semiconductor manufacturing.
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