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ISO 22415:2019
Surface chemical analysis — Secondary ion mass spectrometry — Method for determining yield volume in argon cluster sputter depth profiling of organic materials
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NORM herausgegeben am 10.5.2019
Informationen über die Norm:
Bezeichnung normen: ISO 22415:2019
Ausgabedatum normen: 10.5.2019
SKU: NS-949081
Zahl der Seiten: 30
Gewicht ca.: 90 g (0.20 Pfund)
Land: Internationale technische Norm
Kategorie: Technische Normen ISO
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Die Annotation des Normtextes ISO 22415:2019 :
Description / Abstract: This document specifies a method for measuring and reporting argon cluster sputtering yield volumes of a specific organic material. The method requires one or more test samples of the specified material as a thin, uniform film of known thickness between 50 and 1 000 nanometres on a flat substrate which has a different chemical composition to the specified material. This document is applicable to test samples in which the specified material layer has homogeneous composition in depth and is not applicable if the depth distribution of compounds in the specified material is inhomogeneous. This document is applicable to instruments in which the sputtering ion beam irradiates the sample using a raster to ensure a constant ion dose over the analysis area.
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