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Surface chemical analysis — Depth profiling — Non-destructive depth profiling of nanoscale heavy metal oxide thin films on Si substrates with medium energy ion scattering
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NORM herausgegeben am 15.6.2022
Bezeichnung normen: ISO 23170:2022
Ausgabedatum normen: 15.6.2022
SKU: NS-1064983
Zahl der Seiten: 29
Gewicht ca.: 87 g (0.19 Pfund)
Land: Internationale technische Norm
Kategorie: Technische Normen ISO
Description / Abstract: This document specifies a method for the quantitative depth profiling of amorphous heavy metal oxide ultrathin films on Si substrates using medium energy ion scattering (MEIS).
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Letzte Aktualisierung: 2026-08-14 (Zahl der Positionen: 2 293 479)
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