Cookies
Wir benötigen Ihre Einwilligung zur Verwendung der einzelnen Daten, damit Sie unter anderem Informationen zu Ihren Interessen einsehen können. Klicken Sie auf "OK", um Ihre Zustimmung zu erteilen.
Informationen über die Norm:
Bezeichnung normen: ISO 8181:2023
Ausgabedatum normen: 16.10.2023
SKU: NS-1156171
Zahl der Seiten: 10
Gewicht ca.: 30 g (0.07 Pfund)
Land: Internationale technische Norm
Kategorie: Technische Normen ISO
Kategorie - ähnliche Normen:
Manufacturing engineering (Vocabularies)Surface treatment and coating in general
Die Annotation des Normtextes ISO 8181:2023 :
Description / Abstract: This document defines general terms and film growth processes for atomic layer deposition (ALD). ALD technique is classified into conventional time separated ALD and spatial ALD according to the separation between sequential surface reactions of precursors on substrate. Besides planar substrate, ALD can be used for coating on micro-nano particles, which is developed as powder ALD. Some energy enhanced ALD techniques are also included. This document specifies the processes of different ALD methods. This document applies to the process of ALD. This document does not apply to the deposited materials or specific nanostructures. This document applies to industrial production, scientific research, teaching, publishing and scientific and technological communications related to ALD.
Empfehlungen:
Aktualisierung der technischen Normen
Wollen Sie sich sicher sein, dass Sie nur die gültigen technischen Normen verwenden?
Wir bieten Ihnen eine Lösung, die Ihnen eine Monatsübersicht über die Aktualität der von Ihnen angewandten Normen sicher stellt.
Brauchen Sie mehr Informationen? Sehen Sie sich diese Seite an.
