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ASTM F612-88 Historisch

Practice for Cleaning Surfaces of Polished Silicon Slices (Withdrawn 1993)

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67.20


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ASTM F613-93 Historisch

Test Method for Measuring Diameter of Semiconductor Wafers (Withdrawn 2001)

UNGÜLTIG herausgegeben am 1.1.1993

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75.10


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ASTM F614-80(1991) Historisch

Test Method for Distortion of Optical Lenses Used in Photomask Fabrication (Withdrawn 1996)

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in 1 Werktagen
ASTM F614-80(1991)e1 Historisch

Test Method for Distortion of Optical Lenses Used in Photomask Fabrication (Includes all amendments And changes 8/13/2021).

UNGÜLTIG herausgegeben am 1.1.1991

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67.20


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ASTM F615-79(1988) Historisch

Practice for Determining Safe Current Pulse Operating Regions for Metallization on Semiconductor Components (Withdrawn 1995)

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75.10


in 1 Werktagen
ASTM F615M-95 Historisch

Standard Practice for Determining Safe Current Pulse-Operating Regions for Metallization on Semiconductor Components [Metric]

UNGÜLTIG herausgegeben am 15.5.1995

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75.10


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ASTM F615M-95(2002) Historisch

Standard Practice for Determining Safe Current Pulse-Operating Regions for Metallization on Semiconductor Components [Metric]

UNGÜLTIG herausgegeben am 15.5.1995

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75.10


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ASTM F615M-95(2008) Historisch

Standard Practice for Determining Safe Current Pulse-Operating Regions for Metallization on Semiconductor Components (Metric)

UNGÜLTIG herausgegeben am 15.6.2008

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75.10


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ASTM F615M-95(2013) Historisch

Standard Practice for Determining Safe Current Pulse-Operating Regions for Metallization on Semiconductor Components (Metric) (Withdrawn 2022)

UNGÜLTIG herausgegeben am 1.5.2013

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75.10


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ASTM F616-92 Historisch

Standard Test Method for Measuring MOSFET Drain Leakage Current

UNGÜLTIG herausgegeben am 1.1.1992

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67.20


in 1 Werktagen

Angezeigter Eintrag von 89020 bis 89030 aus gesamt 91795 Einträgen.


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