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Semiconductor silicon and quartz. Method of impurities determination
Die Norm herausgegeben am 1.1.1986
Ausgewählte Ausführung:Silicon tetrachloride. Method of dichlorsilane, trichlorsilane, silicon tetrachloride, 1,3,3,3-tetrachlordisiloxane, 1,1,3,3-te
Die Norm herausgegeben am 1.1.1986
Ausgewählte Ausführung:Semiconductor silicon. Method of oxygen, carbon and nitrogen determination
Die Norm herausgegeben am 1.1.1986
Ausgewählte Ausführung:Semiconductor silicon and raw materials for its production. Method of dichlorsilane, trichlorsilane and silicon tetrachloride determination
Die Norm herausgegeben am 1.1.1986
Ausgewählte Ausführung:Trichlorsilane. Method of methyl chloride, ethyl chloride, butane, isobutane, methylene, chloroform, carbon tetrachloride, methyltrichlorsilane, chlormethylmethylsilane determination
Die Norm herausgegeben am 1.1.1986
Ausgewählte Ausführung:Capillary copper and brass tubes. Specifications
Die Norm herausgegeben am 1.4.2017
Ausgewählte Ausführung:Numerical control systems. Transducers of displacements. General specifications
Die Norm herausgegeben am 1.1.1991
Ausgewählte Ausführung:Presowing soil treatment. Quality requirement and methods for determination
Die Norm herausgegeben am 1.1.1986
Ausgewählte Ausführung:Foil-clad electrical insulating materials for manufacture of printed plates. Test methods
Die Norm herausgegeben am 1.1.1991
Ausgewählte Ausführung:Phenol impregnated cellulose paper foil-clad electrical insulating material for printed plates, high electrical quality. Specifications
Die Norm herausgegeben am 1.1.1991
Ausgewählte Ausführung:Letzte Aktualisierung: 2026-10-07 (Zahl der Positionen: 2 304 402)
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