ASTM D3004-08(2013)..
ASTM D6095-12
ASTM E1438-11
ASTM F1894-98(2011)..
ASTM F615M-95(2013)..
ASTM F76-08
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ASTM F2113-01(2011)
Standard Guide for Analysis and Reporting the Impurity Content and Grade of High Purity Metallic Sputtering Targets for Electronic Thin Film Applications (Withdrawn 2020)
Automatische name übersetzung:
Standard-Leitfaden für Analyse und Reporting der Verunreinigungsgehalt und Grad der High Purity Metallic Sputtertargets für elektronische Dünnschicht-Anwendungen
NORM herausgegeben am 1.6.2011
Informationen über die Norm:
Bezeichnung normen: ASTM F2113-01(2011)
Anmerkung: UNGÜLTIG
Ausgabedatum normen: 1.6.2011
SKU: NS-52871
Zahl der Seiten: 2
Gewicht ca.: 6 g (0.01 Pfund)
Land: Amerikanische technische Norm
Kategorie: Technische Normen ASTM
Kategorie - ähnliche Normen:
Die Annotation des Normtextes ASTM F2113-01(2011) :
Keywords:
electronics, purity analysis, purity grade, sputtering, target, thin film, Electronic thin-film applications, High-purity metallic sputtering targets, Impurities--electronic materials/applications, Semiconductor device testing, Sputtering process/targets, Target specifications, Thin film applications, ICS Number Code 29.045 (Semiconducting materials)
Ergänzende Informationen
| 1. Scope | ||
|
1.1 This guide covers sputtering targets used as thin film source material in fabricating semiconductor electronic devices. It should be used to develop target specifications for specific materials and should be referenced therein. 1.2 This standard sets purity grade levels, analytical methods and impurity content reporting method and format. 1.2.1 The grade designation is a measure of total metallic impurity content. The grade designation does not necessarily indicate suitability for a particular application because factors other than total metallic impurity may influence performance. |
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| 2. Referenced Documents | ||
|
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