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ISO 17331:2004
Surface chemical analysis — Chemical methods for the collection of elements from the surface of silicon-wafer working reference materials and their determination by total-reflection X-ray fluorescence (TXRF) spectroscopy
Automatische name übersetzung:
Chemische Oberflächenanalyse - Chemische Verfahren für die Sammlung von Elementen, von der Oberfläche der Silizium-Wafer Arbeitsreferenzmaterialien und ihre Entschlossenheit durch Totalreflexion Röntgenfluoreszenz (TXRF) -Spektroskopie
NORM herausgegeben am 18.5.2004
Informationen über die Norm:
Bezeichnung normen: ISO 17331:2004
Ausgabedatum normen: 18.5.2004
SKU: NS-427604
Zahl der Seiten: 18
Gewicht ca.: 54 g (0.12 Pfund)
Land: Internationale technische Norm
Kategorie: Technische Normen ISO
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Die Annotation des Normtextes ISO 17331:2004 :
Description / Abstract: ISO 17331:2004 specifies chemical methods for the collection of iron and/or nickel from the surface of silicon-wafer working reference materials by the vapour-phase decomposition method or the direct acid droplet decomposition method. It applies to iron and/or nickel atomic surface densities from 6 times 10 to the power 9 atoms per square centimetre to 5 times 10 to the power 11 atoms per square centimetre.
Zugehörige Änderungen zu dieser Norm:
ISO 17331:2004/Amd1:2010
Änderung
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Surface chemical analysis — Chemical methods for the collection of elements from the surface of silicon-wafer working reference materials and their determination by total-reflection X-ray fluorescence (TXRF) spectroscopy — Amendment 1
(Analyse chimique des surfaces — Méthodes chimiques pour collecter les éléments analysés de tranches de silicium comme matériaux de référence pour l´analyse par spectroscopie de fluorescence X en réflexion totale (TXRF) — Amendement 1)
Änderung herausgegeben am 5.7.2010
Ausgewählte Ausführung:Alle technischen Informationen anzeigen
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