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ISO 17331:2004/Amd1:2010
Surface chemical analysis — Chemical methods for the collection of elements from the surface of silicon-wafer working reference materials and their determination by total-reflection X-ray fluorescence (TXRF) spectroscopy — Amendment 1
Automatische name übersetzung:
Chemische Oberflächenanalyse - Chemische Verfahren für die Sammlung von Elementen, von der Oberfläche des Siliziumwaferarbeitsreferenzmaterialienund ihre Entschlossenheit durch TotalreflexionRöntgenfluoreszenz ( TXRF ) -Spektroskopie
NORM herausgegeben am 5.7.2010
Informationen über die Norm:
Bezeichnung normen: ISO 17331:2004/Amd1:2010
Anmerkung: Änderung
Ausgabedatum normen: 5.7.2010
SKU: NS-427603
Zahl der Seiten: 2
Gewicht ca.: 6 g (0.01 Pfund)
Land: Internationale technische Norm
Kategorie: Technische Normen ISO
Kategorie - ähnliche Normen:
Diese Änderung (Korrektur) bezieht sich auf diese Norm:
ISO 17331:2004
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Surface chemical analysis — Chemical methods for the collection of elements from the surface of silicon-wafer working reference materials and their determination by total-reflection X-ray fluorescence (TXRF) spectroscopy
(Analyse chimique des surfaces — Méthodes chimiques pour collecter les éléments analysés de tranches de silicium comme matériaux de référence pour l´analyse par spectroscopie de fluorescence X en réflexion totale (TXRF))
Die Norm herausgegeben am 18.5.2004
Ausgewählte Ausführung:Alle technischen Informationen anzeigen
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