Wir benötigen Ihre Einwilligung zur Verwendung der einzelnen Daten, damit Sie unter anderem Informationen zu Ihren Interessen einsehen können. Klicken Sie auf "OK", um Ihre Zustimmung zu erteilen.
Die Assoziation JIS befasst sich mit industriellen- und Mineralprodukten, vergleichbaren mit Normen, die von verschiedenen Industrieassoziationen zwecks Lösung konkreter Probleme, oder mit Normen, die von den Gesellschaften eingeführt und angewandt werden (Betriebsanleitungen, Produktspezifikationen usw.). Die Notwendigkeit eines gemeinsamen Verfahrens in den Gesellschaften des Industriesektors führt zur Einführung gemeinsamer Industrienormen sowie zur Erweiterung und folglich zur Entstehung der Assoziation JIS.
Die Auswahl für "JIS - Japanische technische Standards - Seite Nr. 658" präzisieren nach:
General rules for laser ablation ICP spectrometry
Die Norm herausgegeben am 23.3.2026
Ausgewählte Ausführung:Surface chemical analysis -- Data transfer format
Die Norm herausgegeben am 31.10.2000
Ausgewählte Ausführung:Surface chemical analysis -- Information formats
Die Norm herausgegeben am 31.10.2000
Ausgewählte Ausführung:Surface chemical analysis -- Secondary-ion mass spectrometry -- Determination of boron atomic concentration in silicon using uniformly doped materials
Die Norm herausgegeben am 20.2.2023
Ausgewählte Ausführung:Surface chemical analysis -- Glow discharge optical emission spectrometry (GD-OES) -- Introduction to use
Die Norm herausgegeben am 20.2.2018
Ausgewählte Ausführung:Surface chemical analysis -- X-ray photoelectron spectrometers -- Calibration of energy scales
Die Norm herausgegeben am 30.4.2002
Ausgewählte Ausführung:Surface chemical analysis -- Sputter depth profiling -- Optimization using layered systems as reference materials
Die Norm herausgegeben am 30.4.2002
Ausgewählte Ausführung:Surface chemical analysis -- Vocabulary -- Part 1: General terms and terms used in spectroscopy
Die Norm herausgegeben am 21.8.2017
Ausgewählte Ausführung:Surface chemical analysis -- Vocabulary -- Part 2: Terms used in scanning-probe microscopy
Die Norm herausgegeben am 21.8.2017
Ausgewählte Ausführung:Surface chemical analysis-Determination of surface elemental contamination on silicon wafers by total-reflection X-ray fluorescence (TXRF) spectroscopy
Die Norm herausgegeben am 20.1.2026
Ausgewählte Ausführung:Letzte Aktualisierung: 2026-09-03 (Zahl der Positionen: 2 300 115)
© Copyright 2026 NORMSERVIS s.r.o.