Wir benötigen Ihre Einwilligung zur Verwendung der einzelnen Daten, damit Sie unter anderem Informationen zu Ihren Interessen einsehen können. Klicken Sie auf "OK", um Ihre Zustimmung zu erteilen.
Semiconductor devices - Micro-electromechanical devices - Part 12: Bending fatigue testing method of thin film materials using resonant vibration of MEMS structures.
Automatische name übersetzung:
Halbleiterbauelemente - Bauelemente der Mikrosystemtechnik - Teil 12: Verfahren zur Prüfung der Biege-Ermüdungsfestigkeit von Dünnschichtwerkstoffen unter Verwendung der Resonanzschwingungen bei MEMS-Strukturen.
NORM herausgegeben am 1.6.2012
Bezeichnung normen: DIN EN 62047-12:2012-06
Ausgabedatum normen: 1.6.2012
SKU: NS-239563
Zahl der Seiten: 31
Gewicht ca.: 93 g (0.21 Pfund)
Land: Deutsche technische Norm
Kategorie: Technische Normen DIN
Semiconductor devices in generalElectromechanical components in general
Halbleiterbauelemente - Bauelemente der Mikrosystemtechnik - Teil 12: Verfahren zur Prüfung der Biege-Ermüdungsfestigkeit von Dünnschichtwerkstoffen unter Verwendung der Resonanzschwingungen bei MEMS-Strukturen.
UNGÜLTIG
1.11.2012
UNGÜLTIG
1.11.2012
UNGÜLTIG
1.5.2014
UNGÜLTIG
1.5.2014
1.2.2007
1.3.2011
Letzte Aktualisierung: 2025-09-18 (Zahl der Positionen: 2 235 301)
© Copyright 2025 NORMSERVIS s.r.o.