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Semiconductor devices - Micro-electromechanical devices - Part 5: RF MEMS switches
(Dispositifs a semiconducteurs - Dispositifs microelectromecaniques - Partie 5: Commutateurs MEMS-RF)
Die Norm herausgegeben am 13.7.2011
Ausgewählte Ausführung:
Corrigendum 1 - Semiconductor devices - Micro-electromechanical devices - Part 5: RF MEMS switches
(Corrigendum 1 - Dispositifs a semiconducteurs - Dispositifs microelectromecaniques - Partie 5: Commutateurs MEMS-RF)
Korrektur herausgegeben am 8.3.2012
Ausgewählte Ausführung:Semiconductor devices - Micro-electromechanical devices - Part 50: MEMS capacitive microphones
Die Norm herausgegeben am 29.4.2025
Ausgewählte Ausführung:Semiconductor devices - Micro-electromechanical devices - Part 52: Biaxial tensile testing method for stretchable MEMS
Die Norm herausgegeben am 4.3.2026
Ausgewählte Ausführung:Semiconductor devices - Micro-electromechanical devices - Part 53: MEMS electrothermal transfer device
Die Norm herausgegeben am 2.10.2025
Ausgewählte Ausführung:
Semiconductor devices - Micro-electromechanical devices - Part 6: Axial fatigue testing methods of thin film materials
(Dispositifs a semiconducteurs - Dispositifs microelectromecaniques - Partie 6: Methodes d´essais de fatigue axiale des materiaux en couche mince)
Die Norm herausgegeben am 7.4.2009
Ausgewählte Ausführung:
Semiconductor devices - Micro-electromechanical devices - Part 7: MEMS BAW filter and duplexer for radio frequency control and selection
(Dispositifs a semiconducteurs - Dispositifs microelectromecaniques - Partie 7: Filtre et duplexeur BAW MEMS pour la commande et le choix des frequences radioelectriques)
Die Norm herausgegeben am 16.6.2011
Ausgewählte Ausführung:
Semiconductor devices - Micro-electromechanical devices - Part 8: Strip bending test method for tensile property measurement of thin films
(Dispositifs a semiconducteurs - Dispositifs microelectromecaniques - Partie 8: Methode d´essai de la flexion de bandes en vue de la mesure des proprietes de traction des couches minces)
Die Norm herausgegeben am 14.3.2011
Ausgewählte Ausführung:
Semiconductor devices - Micro-electromechanical devices - Part 9: Wafer to wafer bonding strength measurement for MEMS
(Dispositifs a semiconducteurs - Dispositif microelectromecaniques - Partie 9: Mesure de la resistance de collage de deux plaquettes pour les MEMS)
Die Norm herausgegeben am 13.7.2011
Ausgewählte Ausführung:
Corrigendum 1 - Semiconductor devices - Micro-electromechanical devices - Part 9: Wafer to wafer bonding strength measurement for MEMS
(Corrigendum 1 - Dispositifs a semiconducteurs - Dispositifs microelectromecaniques - Partie 9: Mesure de la resistance de collage de deux plaquettes pour les MEMS)
Korrektur herausgegeben am 8.3.2012
Ausgewählte Ausführung:Letzte Aktualisierung: 2026-07-12 (Zahl der Positionen: 2 286 472)
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