IEC - Internationale elektrotechnische Organisation - Seite Nr. 798

Normen IEC - Internationale elektrotechnische Organisation - Seite Nr. 798

IEC – Die Gesellschaft IEC ist eine vordere Weltorganisation, von der die Internationalen Normen für alle elektrischen, elektrotechnischen und zusammenhängende Technologien, zusammenfassend „Elektrotechnologien“ herausgegeben werden. Überall dort, wo sich Strom und Elektrotechnik befindet, findet man auch die Gesellschaft IEC, von der die Sicherheit und Leistung, Umwelt, Stromwirkung und erneuerbare Energie durchgesetzt werden. Von der Gesellschaft IEC werden auch Systeme zur Konformitätsbeurteilung verwaltet, die bescheinigen, dass Anlagen, Systeme oder Komponenten den Internationalen Normen dieser Gesellschaft entsprechen.

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IEC/TS 62045-1-ed.1.0

Multimedia security - Guideline for privacy protection of equipment and systems in and out of use - Part 1: General

Die Norm herausgegeben am 13.12.2006

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103.90


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IEC 62046-ed.1.0

Safety of machinery - Application of protective equipment to detect the presence of persons
(Securite des machines - Application des equipements de protection a la detection de la presence de personnes)

Die Norm herausgegeben am 28.3.2018

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526.00


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IEC 62047-1-ed.2.0

Semiconductor devices - Micro-electromechanical devices - Part 1: Terms and definitions
(Dispositifs a semiconducteurs - Dispositifs microelectromecaniques - Partie 1: Termes et definitions)

Die Norm herausgegeben am 6.1.2016

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337.70


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IEC 62047-10-ed.1.0

Semiconductor devices - Micro-electromechanical devices - Part 10: Micro-pillar compression test for MEMS materials
(Dispositifs a semiconducteur - Dispositifs microelectromecaniques - Partie 10: Essai de compression utilisant la technique des micro-piliers pour les materiaux des MEMS)

Die Norm herausgegeben am 26.7.2011

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52.00


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IEC 62047-10-ed.1.0/Cor.1 Korrektur

Corrigendum 1 - Semiconductor devices - Micro-electromechanical devices - Part 10: Micro-pillar compression test for MEMS materials
(Corrigendum 1 - Dispositifs a semiconducteurs - Dispositifs microelectromecaniques - Partie 10: Essai de compression utilisant la technique des micro-piliers pour les materiaux des MEMS)

Korrektur herausgegeben am 28.2.2012

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1.30


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IEC 62047-11-ed.1.0

Semiconductor devices - Micro-electromechanical devices - Part 11: Test method for coefficients of linear thermal expansion of free-standing materials for micro-electromechanical systems
(Dispositifs a semiconducteurs - Dispositifs microelectromecaniques - Partie 11: Methode d´essai pour les coefficients de dilatation thermique lineaire des materiaux autonomes pour systemes microelectromecaniques)

Die Norm herausgegeben am 17.7.2013

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IEC 62047-12-ed.1.0

Semiconductor devices - Micro-electromechanical devices - Part 12: Bending fatigue testing method of thin film materials using resonant vibration of MEMS structures
(Dispositifs a semiconducteurs - Dispositifs microelectromecaniques - Partie 12: Methode d´essai de fatigue en flexion des materiaux en couche mince utilisant les vibrations a la resonance des structures a systemes microelectromecaniques (MEMS))

Die Norm herausgegeben am 13.9.2011

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272.70


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IEC 62047-13-ed.1.0

Semiconductor devices - Micro-electromechanical devices - Part 13: Bend - and shear - type test methods of measuring adhesive strength for MEMS structures
(Dispositifs a semiconducteurs - Dispositifs microelectromecaniques - Partie 13: Methodes d´essais de types courbure et cisaillement de mesure de la resistance d´adherence pour les structures MEMS)

Die Norm herausgegeben am 28.2.2012

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103.90


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IEC 62047-14-ed.1.0

Semiconductor devices - Micro-electromechanical devices - Part 14: Forming limit measuring method of metallic film materials
(Dispositifs a semiconducteurs - Dispositifs microelectromecaniques - Partie 14: Methode de mesure des limites de formage des materiaux a couche metallique)

Die Norm herausgegeben am 28.2.2012

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IEC 62047-16-ed.1.0

Semiconductor devices - Micro-electromechanical devices - Part 16: Test methods for determining residual stresses of MEMS films - Wafer curvature and cantilever beam deflection methods
(Dispositifs a semiconducteurs - Dispositifs microelectromecaniques - Partie 16: Methodes d´essai pour determiner les contraintes residuelles des films de MEMS - Methodes de la courbure de la plaquette et de deviation de poutre en porte-a-faux)

Die Norm herausgegeben am 5.3.2015

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