Normen DIN - Deutsche nationale Normen - Seite Nr. 2679

Testing of materials for semiconductor technology - Test method for particle analysis in liquids - Part 1: Microscopic determination of particles.
(Prüfung von Materialien für die Halbleitertechnologie - Verfahren zur Teilchenanalytik in Flüssigkeiten - Teil 1: Mikroskopische Teilchenbestimmung.)

Die Norm herausgegeben am 1.11.1995

Testing of materials for semiconductor technology - Test method for particle analysis in liquids - Part 2: Determination of particles by optical particle counters.
(Prüfung von Materialien für die Halbleitertechnologie - Verfahren zur Teilchenanalytik in Flüssigkeiten - Teil 2: Teilchenbestimmung mit optischen Durchflusspartikelzählern.)

Die Norm herausgegeben am 1.10.2009

Testing of materials for semiconductor technology - Determination of etch rates of etching mixtures - Part 1: Silicium monocrystals, gravimetric method.
(Prüfung von Materialien für die Halbleitertechnologie - Bestimmung der Ätzraten von Ätzmischungen - Teil 1: Silicium-Einkristalle, Gravimetrisches Verfahren.)

Die Norm herausgegeben am 1.8.2023

Testing of materials for semiconductor technology - Determination of etch rates of etching mixtures - Part 2: Silicon-dioxide coating, optical method.
(Prüfung von Materialien für die Halbleitertechnologie - Bestimmung der Ätzrate von Ätzmischungen - Teil 2: Siliciumdioxid-Schichten, Optisches Verfahren.)

Die Norm herausgegeben am 1.8.2023

Testing of materials for semiconductor technology - Methods for characterizing photoresists - Part 1: Determination of coating thickness with optical methods.
(Prüfung von Materialien für die Halbleitertechnologie - Verfahren zur Charakterisierung von Fotolacken - Teil 1: Bestimmung der Schichtdicke mit optischen Messverfahren.)

Die Norm herausgegeben am 1.10.2009

Testing of materials for semiconductor technology - Methods for the characterisation photoresists - Part 2: Determination of photosensitivity of positive photoresists.
(Prüfung von Materialien für die Halbleitertechnologie - Verfahren zur Charakterisierung von Fotolacken - Teil 2: Bestimmung der Lichtempfindlichkeit von Positiv-Fotolacken.)

Die Norm herausgegeben am 1.11.1999

Capacitance graded outdoor bushing 52 kV up to 420 kV for oil immersed transformers.
(Kapazitiv gesteuerte Freiluftdurchführungen 52 kV bis 420 kV für ölgefüllte Transformatoren.)

Die Norm herausgegeben am 1.12.2006

VDE V 0831-459-1. Railway applications - Communication, signalling and processing systems - European Rail Traffic Management System - Driver-Machine Interface - Part 1: General principles for the presentation of ERTMS/ETCS/GSM-R information.
(VDE V 0831-459-1. Bahnanwendungen - Telekommunikationstechnik, Signaltechnik und Datenverarbeitungssysteme - Europäisches Leitsystem für den Schienenverkehr - Mensch(Triebfahrzeugführer)-Maschine-Schnittstelle - Teil 1: Ergonomische Grundsätze für die Darstellung von ERTMS/ETCS/GSM-R-Informationen.)

Die Norm herausgegeben am 1.5.2022

VDE V 0831-459-2. Railway applications - Communication, signalling and processing systems - European Rail Traffic Management System - Part 2: Ergonomic arrangements of GSM-R information.
(VDE V 0831-459-2. Bahnanwendungen - Telekommunikationstechnik, Signaltechnik und Datenverarbeitungssysteme - Europäisches Leitsystem für den Schienenverkehr - Teil 2: Ergonomische Anordnung der GSM-R-Informationen.)

Die Norm herausgegeben am 1.5.2022

VDE V 0831-459-3. Railway applications - Communication, signalling and processing systems - European Rail Traffic Management System - Part 3: Ergonomic arrangements of non ETCS information.
(VDE V 0831-459-3. Bahnanwendungen - Telekommunikationstechnik, Signaltechnik und Datenverarbeitungssysteme - Europäisches Leitsystem für den Schienenverkehr - Teil 3: Ergonomische Anordnung der Nicht-ETCS Informationen.)

Die Norm herausgegeben am 1.5.2022